提到國(guó)產(chǎn)芯片業(yè)務(wù)，國(guó)人總會(huì)有較多關(guān)注。在當(dāng)前外部環(huán)境影響下，國(guó)產(chǎn)芯片要持續(xù)進(jìn)步，需要付出更多努力，而我國(guó)從未放棄自研芯片的計(jì)劃。據(jù)相關(guān)報(bào)道，自研中國(guó)芯片終將迎來量產(chǎn)。

　　芯片作為高精度電子元器件，對(duì)生產(chǎn)用水的要求極高，通常需使用超純水。傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)工藝多采用離子交換樹脂，需要頻繁進(jìn)行樹脂再生，耗費(fèi)較多物力和人力。經(jīng)過多年實(shí)踐，行業(yè)內(nèi)出現(xiàn)了將反滲透水處理設(shè)備、電去離子(EDI)設(shè)備和拋光混合床相結(jié)合的超純水生產(chǎn)工藝，這種新工藝具有環(huán)保、經(jīng)濟(jì)等諸多優(yōu)點(diǎn)，發(fā)展?jié)摿^大。該工藝通過預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理和后處理等環(huán)節(jié)，幾乎能完全去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，同時(shí)將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物降至較低水平。

　　超純水設(shè)備用于芯片生產(chǎn)用水的制備，優(yōu)點(diǎn)主要包括：

　　混合床中樹脂需用化學(xué)酸堿再生，而 EDI無需這些步驟，減少了有害物質(zhì)的處理和繁重工作，有利于環(huán)境保護(hù)。

　　混床因每次再生和水質(zhì)變化，操作過程較為復(fù)雜；EDI的制水過程穩(wěn)定連續(xù)，生產(chǎn)水質(zhì)恒定，簡(jiǎn)化了操作程序。

　　超純水設(shè)備可根據(jù)場(chǎng)地條件靈活施工，模塊化設(shè)計(jì)使EDI在生產(chǎn)中易于維護(hù)。

　　處理工藝嚴(yán)格遵循國(guó)家環(huán)保政策，能確保處理后的水質(zhì)穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。

　　我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的崛起，推動(dòng)了自主芯片研發(fā)的快速發(fā)展，為國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的全面進(jìn)步做出了一定貢獻(xiàn)，值得每一個(gè)中國(guó)人認(rèn)可。而超純水設(shè)備也必將為芯片的高質(zhì)量生產(chǎn)提供有力保障。